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AirTree製品
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AirTreeオゾン発生装置の特徴
オゾンとは


AirTree製品　一覧
オゾンガス発生装置
オゾン発生量
オゾン濃度		 オゾン水
原料ガス		 冷却方法 画像 詳細
C-Lasky シリーズ
研究用小型オゾン発生機		 2g/h @ 10L/min
10/h @ 6L/min		 内蔵ポンプ空気
外部供給酸素		 空冷
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A-シリーズ(2種類)

A-20
A-40		 20g/h〜40g/h
@16〜30g/Nm3
外部乾燥空気

CE取得		 空冷

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G-Pシリーズ　(6種類)

P-10
P-20
P-30
P-40
P-50
P-60		 10g/h〜60g/h
@30〜125g/Nm3
酸素PSA内蔵

CE取得		 空冷 詳細への
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壁掛け型

W-5		 20g/h〜36g/h
@67〜40g/m3

5g/h〜14g/h
@16〜12g/m3



外部酸素



外部乾燥空気		 空冷 詳細への
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Vシリーズ(5種類)

V-80
V-120
V-140
V-200
V-240
 80g/h〜260g/h
@120〜147g/Nm3
外部酸素

CE取得		 空冷 詳細への
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G-Tシリーズ(12種類)

G-T2
G-T4
G-T6
G-T8
G-T10
G-T12
G-T14
G-T16
G-T18
G-T24
G-T30
G-T36		 120g/h〜5,000g/h
@88〜147g/Nm3
外部酸素

CE取得		 水冷 詳細への
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大型オゾン発生装置
TWシリーズ　(3種類)

TW-025
TW-50
TW-100

パルプ漂白、排水処理		 3.4 〜 13.6kg/h
@147g/Nm3
PSA酸素
液体酸素

CE		 水冷 詳細への
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半導体分野特別仕様
シリーズ

H-100
H-200
　　　　　　　+OWUCS - H
H-300
H-400

半導体分野仕様		 最高オゾンガス
350g/Nm3

最高オゾン水
110ppm
 液体酸素
窒素レス

SEMI-S2/S8

CE		 水冷 詳細への
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オゾン水発生装置
オゾン発生量
オゾン濃度		 オゾン水
原料ガス		 冷却方法 画像 詳細
冷却塔防藻用

BOB-7 Ass'y		 900mg/h 自動吸引空気 水冷 詳細は
メールにて
お問い合わせ下さい。
オゾン水生成装置

BOB-7		 1.8g/h @ 3g/m3 1ppm x 10L/min 空水冷 詳細への
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オゾン水生成装置

S-5		 6g/h x 3.3g/m3 1ppm x 30L/min 詳細への
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オゾン水生成装置
S-10シリーズ(3種類)

S-10-NP
S-10-AM
S-10-GL
18g/h x 12g/h m3
40g/h x 38g/h m3
1ppm x 100L/min
4ppm x 100L/min		 水空冷 詳細への
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AirTreeオゾン発生装置の特徴
1. 金属コンタミネーションについて 石英ガラス二重放電管端部
石英ガラス二重管の両端は溶接で閉じられた上、連通する接続口が設けられており、
封管構造である為特別な耐オゾンシール部がありません。
金蒸着を施した二重管の内側の高圧電極と、外側に密着するグラウンド電極間で無声放電が発生する為、
電極は放電場に晒されず電極の酸化劣化やその影響による放電効率変化がありません。
よって、金属コンタミネーションのないクリーンなオゾンガスを生成します。
2. 窒素酸化物
オゾンガスの用途に応じて乾燥空気、PSA酸素、液体酸素などを原料ガスとしてオゾンを生成します。
本放電管方式では窒素無添加高純度99.99%の酸素を供給して、窒素酸化物を含まない
クリーンなオゾンガスを安定して生成することが可能です。
また、これらのアプリケーションはNOxによる品質低下を嫌う半導体プロセスなどに採用されています。
3. 広域ラインアップ
小型から大型、低濃度から高濃度まで様々なオゾン発生装置が揃っており、
装置によって放電管及び高圧トランスの冷却は強制空冷と水冷方式を採用しております。
最高位機種ではオゾンガスの濃度が業界トップクラスの323g/Nm3の高濃度発生装置(G-H400)は半導体分野に、
又、オゾンガス発生量15.0kg/hの大型発生装置(D-Matrix TW-100)は排水処理やパルプ漂白に使用されます。
（最大 150kg/hr)
4. パーシャル運転
複数の放電管と高圧トランスは対を成し、最適状態にチューンアップされたモジュールを形成しています。
中型以上の装置ではこのモジュールが複数集積搭載されており、運転や停止制御が個々に行える為、
メンテナンス時やトラブル時に選択可能です。
また、オゾン処理の負荷に応じた運転も行えるなど省力化や省電力に寄与します。
HMI監視設定画面のキーパッドや外部装置、PC通信などからの制御構築も容易に行う事が出来ます。
5. 長期保証
半導体用ではSEMI-S2/S8を、また全ての装置はCEマークの国際規格の認証を受けております。
装置の性能保証は装置が1年、石英ガラス二重放電管は5年です。

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オゾンとは
オゾンの強力な酸化力によって以下が可能となります。
酸化：　有害物質や有機物の分解、各種洗浄
脱色：　染料、フミン質などの着色成分を漂白
殺菌：　細菌、ビールス、カビなどを殺菌、不活性化
脱臭：　様々な臭気を酸化分解

オゾンの活用分野
上下水道分野食品衛生分野、工業排水処理分野、半導体・液晶製造分野・水産業・水族館、
スパ・プール、農業・畜産業、製紙業、医療・研究分野など多岐用途で使用されています。

オゾンガス発生装置
これら様々な分野に適した小容量装置から超大容量装置まで、また希薄濃度から超高濃度の
オゾンガス発生装置の数々をご紹介致します。
更に、オゾンガスの原料となる酸素の濃縮装置は弊社の特許技術を生かした酸素PSAや、
これら装置の関連部品などもあわせて掲載しております。

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